原创 国产光刻机，究竟走到哪一步了？ASML：落后10年以上

最关键的是，当前能制造光刻机的厂商，全球仅4家，分别是荷兰ASML（阿斯麦）、日本尼康（Nikon）、日本佳能（Canon）和中国上海微电子装备有限公司（SMEE），且这4家差距非常大。

特别是EUV光刻机，这种制造7nm以下芯片的光刻机，全球仅ASML一家能够制造，所以ASML的EUV是奇货可居，全球需要制造先进芯片的厂商，都得找它买。

而美国在中间搞风搞雨，控制着ASML，不允许其向中国销售EUV光刻机，甚至对高端的浸润式DUV，也进行限制，所以对于我们而言，必须研发出自己的光刻机才行。

问题就来了，目前国产光刻机，究竟走到哪一步了？

目前国产公开的，光刻机最强的是上海微电子，公开的光刻机是SSA600，按照官方说法，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸产线或12寸产线。

不过，也人有称，目前国内还有另外的光刻机，毕竟去年就表示过，有氟化氩光刻机，套刻精度小于等于8nm，它可其实可以说是浸润式DUV光刻机前，最接近浸润式光光刻机的产品了，可以用于28nm的工艺。